蝕刻不均勻是指在蝕刻過程中，材料表面不同區(qū)域的蝕刻深度或蝕刻速度存在明顯差異。這種現(xiàn)象會導(dǎo)致蝕刻后的圖案或形狀尺寸不準(zhǔn)確，影響產(chǎn)品的外觀質(zhì)量和性能。.
原因：蝕刻液濃度分布不均，靠近添加口處濃度高、蝕刻速度快，遠離添加口處濃度低、蝕刻速度慢。
解決方法：通過攪拌或循環(huán)系統(tǒng)保持蝕刻液均勻分布，合理設(shè)計添加口位置，避免局部濃度過高。
原因：蝕刻過程對溫度敏感，不同溫度區(qū)域的蝕刻速率不同，高溫區(qū)域蝕刻快，低溫區(qū)域蝕刻慢。
解決方法：配置工業(yè)冷水機，通過循環(huán)冷卻液有效控制蝕刻設(shè)備的溫度，確保蝕刻區(qū)域溫度均勻。 特域冷水機 溫控精度可達±0.08℃，能持續(xù)穩(wěn)定為設(shè)備控溫，使蝕刻保持均勻。
原因：材料表面高低起伏，凸起部分蝕刻液接觸充分、蝕刻速度快，凹陷部分接觸不足、蝕刻速度慢。
解決方法：在蝕刻前對材料表面進行預(yù)處理，如打磨、拋光或化學(xué)清洗，確保表面平整，減少因表面不平整導(dǎo)致的蝕刻不均勻。
通過以上方法，可以有效減少蝕刻不均勻現(xiàn)象，提高蝕刻加工的質(zhì)量和一致性。
